94 [1] Materiały Racheli Auerbach
Rozdział VI.
Apercepcja wyrazu i supozycja zawartości psychicz[nej].
§ 15. Różne uwarunkowania dwu momentów aktu spostrzegania postawy zewn[ętrznej].
Konieczność wyróżnienia dwu momentów w akcie spostrzegania postawy zewn[ętrznej] przez osobę II. Oddzielność obu wyróżniających momentów. Odmienność uwarunkowania. Określenia.
§ 16. Niewspółmierność apercepcji i supozycji.
Rozdział VII.
Analiza przyczynowa warunków „maski” (Stosunek przyporządkowania wyjawowego).
[118] § 17. Stosunek zawartości psychicz[nej] do postawy zewn[ętrznej] jako wyjawu.
Modyfikacja zawartości psychicz[nej] i jej symptomów. Zawartość psych[iczna] indywidualna i interindywidualna. Jednorazowość modyfikacji indywidualnych. Wyjaw jako bezpośredni korelat zawartości psychicz[nej] indywidualnej. Niemożliwość istotnej niezgodności między zawartością psych[iczną] a postawą zewn[ętrzną] jako wyjawem. Wyjawy eliptyczne.
§ 18. Stosunek zawartości psychicz[nej] do postawy zewn[ętrznej] jako wyrazu.
§ 19. Niezgodność zawartości psych[icznej] z wyjawem a wyrazem.
Rozdział VIII.
Główne warunki „maski” i znaczenie ich ustalenia dla rozwoju psychognostyki.
§ 20. Nowe określenie „maski”.
Definicja „maski” a rozróżnienie wyjawu i wyrazu.
Definicja „maski” a cztery jej warunki. Ostateczna formuła „maski”.
§ 21. Cztery warunki „maski” a jej stopień grubości.
Powszechność zjawiska „maski”. Stopnie grubości „maski”.
§ 22. Schemat „maski” i jego znaczenie dla psychognostyki.
Wzory czterech rodzajów „maski”. Rola schematu „maski” w psychognostyce. Niwelacja niektórych warunków „maski” przez badania psychognostyczne.
Zakończenie
Uwagi
